| 內容 |
財團法人精密機械研究發展中心本次公開專利讓與16筆
| 項次 |
專利名稱 |
專利證號 |
| 1 |
離心沉降式之粉粒體粒徑線上量測分析裝置 |
205407 |
| 2 |
奈米粉體製造程序 |
I240699 |
| 3 |
場發射雙面顯示器、雙面背光模組、多面液晶顯示器、雙面照明設備及其等的製作方法 |
I262530 |
| 4 |
半開放式珠磨機 |
I277446 |
| 5 |
用於轉印製程之磁場輔助均勻施壓裝置 |
I284924 |
| 6 |
粒子表面電位之線上分析與監控裝置 |
I282856 |
| 7 |
黏著性之奈米光觸媒組成物之製備方法,以及由之所生成的產物及其用途 |
I271215 |
| 8 |
微刀具之定位方法及使用該方法之加工設備 |
I333434 |
| 9 |
具功能性構造之傳動件 |
I357374 |
| 10 |
攜帶式發電系統 |
I362450 |
| 11 |
可串接之伺服機及其轉接結構 |
I402026 |
| 12 |
用於一模多穴射出成型模之熱澆道溫度控制與警示方法及使用該方法的控制系統 |
I400155 |
| 13 |
節能透明板 |
ZL201420008757.0 |
| 14 |
可撓式薄片之軟磨料拋光加工方法及裝置 |
I280176 |
| 15 |
複合式花崗岩 |
I318656 |
| 16 |
線性馬達之位置檢知方法 |
I482400 |
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